OAML: L’Olografia Multidimensionale per l’Archiviazione Avanzata
Olografia multiplexing multidimensionale basata sul multiplexing reticolare del momento angolare orbitale ottico
Un nuovo capitolo nell’innovazione dell’olografia si apre con il Multiplexing del Momento Angolare Orbitale Ottico (OAM). Questa tecnica all’avanguardia va oltre le limitazioni tradizionali della polarizzazione, lunghezza d’onda e angolo di incidenza, aprendo la strada a un mondo di opportunità nell’archiviazione dei dati, nella stampa 3D, nell’intelligenza artificiale e nelle pinzette ottiche. Nonostante i progressi, la ricerca è in continua evoluzione per soddisfare la crescente domanda di capacità di archiviazione avanzata.
Il Professor Xiaocong Yuan e il suo team presso l’Università di Shenzhen stanno guidando questa rivoluzione con l’Olografia Multidimensionale del Reticolo del Momento Angolare Orbitale (OAML). Questo approccio innovativo sfrutta un raggio a reticolo di vortice (VL) con due parametri aggiunti, che contribuiscono alle dimensioni azimutali e radiali. Questa combinazione sblocca ulteriori dimensioni crittografate, aprendo la strada a un notevole miglioramento delle capacità di archiviazione. I risultati di questa ricerca, pubblicati su Advanced Photonics Nexus, stanno ridefinendo il concetto di sistemi olografici.
A differenza dell’olografia OAM tradizionale, l’OAML utilizza un raggio VL per fornire vettori di informazioni indipendenti, aggiungendo due dimensioni crittografate in più. Manipolando l’angolo di rotazione del reticolo del vortice e le dimensioni del reticolo stesso, questo approccio innovativo amplifica notevolmente la capacità di stoccaggio, superando i limiti delle metodologie convenzionali.
Questo progresso non solo offre un potenziamento significativo nella capacità di archiviazione delle informazioni, ma apre anche nuove opportunità per l’implementazione di sistemi olografici ad alta capacità. Il valore di questa scoperta si estende in particolare a campi come la crittografia e l’archiviazione dei dati, promettendo un futuro in cui l’olografia supererà le sue attuali limitazioni.
CREDITO
Tian Xia, Università di Shenzhen.