RIT il Rochester Institute of Technology presenta una resina SLA autoriparante per stampa 3D di precisione Fotopolimeri autoriparanti dual‐fase
Polimeri fotopolimerici autoriparanti per stampa 3D: il progresso firmato RITUn team di ricerca del Rochester Institute of Technology (RIT), guidato dal dottorando Vincent Mei in collaborazione con Kory Schimmelpfennig e…