Nuovo Avanzamento nella Stampa 3D: Il Controllo del Restringimento Uniforme

Un team di ricercatori presso la Singapore University of Technology and Design (SUTD), in collaborazione con l’Industrial Technology Center nella prefettura di Wakayama, Giappone, ha introdotto un innovativo metodo di stampa 3D che permette il restringimento uniforme di micro e nanostrutture. Questo avanzamento offre precisione senza precedenti nel campo della stampa 3D e presenta diverse applicazioni promettenti.

La Tecnologia di Base

Il cuore di questa innovazione è la tecnica di litografia di polimerizzazione a due fotoni (TPL), comunemente usata per creare micro e nanostrutture. La differenza chiave è l’uso di uno strato di alcol polivinilico (PVA) applicato al substrato di stampa. Questo strato consente alle strutture stampate in 3D di essere trasferite su un substrato separato, dove possono restringersi in modo controllato. In passato, il ritiro non uniforme delle strutture rappresentava una sfida significativa nella TPL, ma questo nuovo metodo lo risolve efficacemente.

Ampie Possibilità di Applicazione

Questo avanzamento offre una gamma di applicazioni potenziali. Una delle più interessanti è la possibilità di creare materiali che possono cambiare colore in base alle condizioni di illuminazione, il che potrebbe rivelarsi un vantaggio cruciale nella lotta contro la contraffazione. Inoltre, questa tecnologia ha il potenziale per migliorare la produzione di dissipatori di calore complessi per l’elettronica ad alte prestazioni, così come la creazione di componenti meccanici, dispositivi ottici e dispositivi acustici ad alta precisione.

Prospettive Future

Il team di ricerca sta attualmente lavorando su ulteriori sviluppi. Prevedono di estendere l’applicazione di questa tecnica a materiali con indici di rifrazione più elevati, il che potrebbe migliorare significativamente i cristalli fotonici utilizzati in una serie di tecnologie, tra cui laser, sistemi di imaging e sensori ottici. Inoltre, stanno cercando di perfezionare il controllo della spaziatura nelle strutture stampate, aprendo la strada alla creazione di modelli 3D a colori in grado di manipolare con precisione la luce.

Questo avanzamento promette di avere un impatto significativo su una vasta gamma di settori, portando ad applicazioni più precise e versatili nella stampa 3D e nella produzione di materiali avanzati.

Presentazione del metodo per il restringimento uniforme di micro e nanostrutture stampate in 3D sviluppato dalla SUTD e dall’Industrial Technology Center della Prefettura di Wakayama, che apre nuove possibilità applicative nel campo dell’anticontraffazione e dell’elettronica ad alte prestazioni. 
(Immagine © Università di Tecnologia e Design di Singapore)

Di Fantasy

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