Un photoresist per la microstampa a due fotoni per produrre microstrutture polimeriche tridimensionali con cavità di dimensioni nanometriche.
Un nuovo tipo di fotoresist consente la stampa 3D delle strutture porose più piccole I ricercatori del Karlsruhe Institute of Technology (KIT) e dell’Università di Heidelberg hanno sviluppato un photoresist…