La società di stampa 3D Nanoscribe ha annunciato le ultime innovazioni nella litografia in scala di grigi a due fotoni (2GL). Oltre alle nuove funzionalità per la stampante 3D Quantum X, Nanoscribe ha introdotto la fotoresina IPX-M nella sua serie di resine fotografiche IPX.
La serie di fotoresine IPX di Nanoscribe è stata sviluppata per la tecnologia di litografia in scala di grigi a due fotoni per la microfabbricazione 2.5D su sistemi Quantum X. La nuova IPX-M è una fotoresina ad alto rendimento progettata per la stampa in macroscala su un volume di stampa fino a 30 cm³ in un solo passaggio. Gli utenti possono beneficiare di una maggiore libertà di progettazione e stampare oggetti di grandi dimensioni con proporzioni elevate, senza compromettere la precisione e la qualità ottica.
Inoltre, Nanoscribe ha introdotto due nuove funzionalità per la stampante 3D Quantum X. La regolazione dinamica della dose laser ai limiti del campo di stampa consente di compensare gli errori di posizionamento e il restringimento indotto chimicamente del fotopolimero, consentendo di stampare strutture senza soluzione di continuità su un’area di diversi centimetri quadrati. Il rilevatore automatico di interfaccia rileva le superfici del substrato con precisione nanometrica, garantendo una superficie liscia e senza puntine sui substrati inclinati.
Grazie alle nuove funzionalità per la stampante 3D Quantum X e alla nuova fotoresina IPX-M, Nanoscribe sta migliorando la sua offerta di tecnologie di stampa 3D avanzate per la microfabbricazione su larga scala.
